UV (자외선) 리소그래피 장비 > 연구기기

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작성자 최고관리자
댓글 0건 조회 300회 작성일 22-09-02 13:31

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당사의 UV (자외선) 리소그래피 장비 및 UV (자외선) 경화 장비는 반도체, 리드 프레임, 형광체 및 기타 코팅제, 용제 개발, 정밀 스크린 플레이트 및 열 헤드 인쇄와 같은 다양한 UV 노출 장면에 대응했습니다. 우리는 고객의 다양한 요청에 응답 할 것입니다. 우리는 또한 많은 주문품 기계를 제조한다, 그래서 저희에게 연락하게 자유롭게 느끼십시오. 여기에서는 예를 소개하고자합니다.

 

우리의 UV (자외선) 노출 광원 및 경화 장비는 전자 관련 회사, 관공서 및 대학의 기본 연구와 같은 다양한 장면에 응답하는 데 사용되었습니다. 우리는 각 고객의 요구를 충족시키는 다양한 장비를 계속 제안 할 것입니다.

 

<주요 응용 분야> ■ UVE 시리즈를 포함한 고정밀 병렬 광원 • 웨이퍼, 유리 기판, 세라믹 기판, MEMS 반도체 관련 제품의 정밀 노출, • 리드 프레임 , 열 헤드 등의 패턴 형성 • 전자 제품 등과 관련된 정밀 스크린 플레이트의 미세 패턴 형성 • 유리 마스크 등의 미세 패턴 복제 ■ 수은 및 금속 할로겐화물 램프 호환 UV 경화 장비 • 다양한 전자기기의 UV 코팅 및 접착경화 • 유기용매 개발, 자외선 경화수지 개발 • 노광 및 예비도료 공정 에서의 젖음성(접착력) 개선 • 광중합을 포함한 광화학반응 평가

 

 

UV 대면적 리소그래피 및 경화 장비

 

컨베이어 유형 UV (자외선) 경화 장비 SUVC 시리즈

UV 경화 장비(대면적) 독립형 - SUVC 시리즈 카탈로그(약 400KB)   이 장비는 컨베이어 유형이며 다양한 유형의 공작물을 지원합니다. 이 장치는 금속 할로겐화물 및 수은 램프에서 방출되는 광 조사에 의해 다양한 재료에 적용되는 예비중합체, 단량체, 광중합 개시제, 감광성 UV 잉크, 안료, 접착제 등을 경화시키는 것을 목표로합니다.     도식 사양 모델 SUVC-0904M *특별 주문 예 사과 메탈 할라이드 9kw × 4 램프 120W / c㎡ 차원 2000mm (W) × 1200 (D) × 2070mm (H) 광학 콜드 미러 포커싱 타입 수술 PLC + GOT (그래픽 작동 터치) 컨베이어 속도 속도 제어 조정을 가진 3~30m/min 조사 폭 700mm 조사 강도 800mW/c㎡ 이상 *컨베이어 속도 7m/min에서 컨베이어 SUS 그물 벨트 명세 힘 삼상 200V 225A   ※ 고객이 요청한 조사 크기 및 자외선 강도 등 각 사양에 따라 하나의 유닛으로 사용자 정의 및 제조합니다.

UV(자외선) 경화설비(대면적) 독립형

UV 경화 장비 독립형 SUV-2000SH 카탈로그 (약 600KB)

 

이것은 메타하라 또는 수은 램프를 사용한 경화 실험이나 작은 로트의 노광 처리에 의한 생산에도 사용되는 소형 UV 경화 장치입니다. 전자 장치 (인쇄 회로 기판, 커패시터, 칩 등)의 UV 경화 수지, 접착제, 코팅 등과의 접착과 같은 응용 분야 이는 잉크 재료의 자외선 건조와 같은 광범위한 광중합 반응을 수행 및 처리할 수 있는 UV 경화 장치이다.

 

도식 사양

모델	SUV-2000SH
사과	2000W 수은 또는 메타하라 램프 사용. * 당신이 고출력을 필요로 하는 경우에, 저희에게 연락하십시오.
효과적인 조사 영역	450 x 450(mm) * 원하는 조사 영역에서도 별도로 대응하겠습니다.
자외선 강도	10mW/c㎡ 이상 (365nm)
고름	약 ±10 % (효과적인 조사 영역에서) 내의 산란 광원이지만, 고유하게 설계된 보조 반사 거울로 높은 균일성이 달성됩니다.
광도 조정 기능	터치 패널 3단 스위칭(램프 출력) 타이머 노출 제어
공작물의 열에 대한 조치	콜드 미러 및 콜드 필터 사용
안전	안전한 사용을 위해 다양한 이상 감지 기능도 향상되었습니다.
풀아웃	작업 단계는 풀아웃 유형이기 때문에 가공성이 좋으며 조사 중에 UV 광 누출이 방지됩니다.
터치 패널 작동	터치 패널, 조사 조건 9ch 메모리 및 기타 간단하고 사용하기 쉬운 조작에 의한 쉬운 조작.
클린룸 대책	깨끗한 방 등과 호환되는 Sass 하우징 (일부 페인트 부품 포함) 쓰레기와 먼지의 발생을 줄입니다.
신체 치수	650mm (폭)×650mm (깊이)×1530mm (고도)

 

UV 심플 리슬렛 새로운

 

2000W Methara, 수은 램프는 또한 교환 및 공유, 다중 파장 호환 리소그래피 장비 수 있습니다

간단한 리슬릿 UV-2000MT 카탈로그 (약 4.1MB)

 

2000W 메타하라 램프와 수은 램프는 모두 교환 및 공유가 가능하며 여러 파장과 호환되므로 실험 및 연구에 이상적입니다.

 

모델	자외선 - 2000MT
크기	본체 450 (W) × 450 (D) × 450 (H) mm 전원 공급 장치 450 (W) × 450 (D) ×200 (H) mm
사과	2000W 메타하라 및 수은 램프도 다중 파장 호환 호환 및 교환 및 공유 할 수 있으며 실험 및 연구에 이상적입니다.
조사 영역	약 150×150mm * 다른 크기를 사용할 수 있습니다. 저희에게 연락하십시오.
자외선 강도	100mW 이상(365nm) * 수치는 광도계의 제조업체에 따라 다릅니다.
노출 관리	터치 패널(PLC)에 의한 타이머 관리. 옵션으로 통합 광도계로 관리 할 수 있습니다.
다른 기능	연동 안전 기능, 램프 수명, 노출 모드 (높음, 낮음) 등을 선택하여 터치 패널에서 확인할 수 있습니다.

 

※ 또한, 요청시 특별 주문 등에 대해서도 문의해 주세요.

 

높은 정밀도 균일 한 평행 한 빛 UV UV 리소그래피 장비

 

탁상형 (소형) 고정밀 균일 및 병렬 광 리소그래피 장치

자외선 노출 유형 노출 UVE 시리즈 카탈로그 (약 4.1MB)   자외선 노출 유형 특징 고출력과 소형화를 실현하는 독특한 광학 디자인. 높은 안정성, 긴 서비스 수명, 오존이없는 램프 사용. 용도에 따라 조사 파장 범위를 선택할 수 있다. 자동화 라인을 위한 풍부한 원격 기능. 철저한 소음 방지 조치. 조사 헤드는 90 °마다 교체 할 수 있습니다. 조사 각도는 목적 및 용도에 따라 변경될 수 있다. 램프 아크 모니터가 장착되어있어 램프를 변경할 때 광축을 쉽게 조정할 수 있습니다. 쓰다 ●UV 본딩 용도:  액정 유리 등의  본딩 및 밀봉 CD 및 DVD 드라이브의 광학 픽업 렌즈 및 전자 제품의 본딩 ●포토레지스트 용도  다양한 마이크로 장치 (트랜지스터, 석영 결정, 리드 프레임 등 : 실리콘 웨이퍼의 노출 광원,  다양한 광학 실험)   최대 250W ~ 2000W의 초고압 수은 램프의 고성능 통합기를 사용하여 시준된 렌즈를 통해 공작물 표면에 UV 광을 균일하게 조사 할 수 있습니다. 우리는 다양한 조사 직경 단위가 있습니다. 우리는 또한 요청시 다양한 필터를 제안 할 것입니다. 응용 분야로서 반도체 웨이퍼 및 크리스탈 공진기, 마스크 얼라이너 광원, 다양한 광학 및 노광 실험 장비와 같은 전자 부품의 노출로 널리 사용됩니다. * 대형 출력(2kw 이상) 및 대면적(300mm Φ 이상)이 고성능 적분기 렌즈 및 고정밀 시준 미러와 결합되어 균일한 조사를 재현합니다. 저희에게 연락하십시오.   조사 파장에 대해서(초고압 수은 램프를 사용하는 경우)   노광 광원의 광학 구조 초고압 수은 램프 타원 집중 거울 평면 반사 미러 1 통합자 렌즈 평면 반사 미러 2 시준식 렌즈 (1) 초고압 수은 램프에서 방출되는 가시광선은 (2) 타원형 집중 거울에 의해 집속되고, (3) 평면 반사 거울(1)은 조사 방향을 수평 방향으로 변경하고, (4) 적분기 렌즈로 진입한다. (4) 조도 분포는 적분기 렌즈에 의해 균일화되고, (5) 조사 방향은 (6)에서 시준된 렌즈에 입사하는 평면 반사 미러(2)에 의해 수직으로 변화된다. 균일한 조도 분포를 갖는 자외선은 (6)에서 시준된 렌즈에 의해 병렬화되고 평행하고 균일한 조사된 광으로서 조명된 표면으로 진입한다.   UV 강도에 관하여    측정기 UVP-365JW 측정 파장 365nm  단위 mW  /cm² 광원 장치 UVE-251S UVE-502S UVE-1001S UVE-2001S 조사 거리 자외선 강도 자외선 강도 자외선 강도 자외선 강도 EL-100※1 200 25 60 110 180 EL-125 200 15 40 70 110 EL-160 300 10 25 40 70 EL-200 350 8 20 30 50 EL-220 350 6 15 25 40 EL-240 350 - 10 18 35 EL-270 350 - 8 15 25 *1.각 조사 단위의 유효 조사 직경을 나타냅니다.   광원 장치의 외부 치수   아래 카탈로그 PDF에 나열되어 있습니다. 여기에서 확인하십시오. 노출 UVE 시리즈 카탈로그 (약 4.1MB)   전원 공급 장치 외부 치수 도면 및 사양      셔터 기능 • 수동 및 타이머 제어 (0.1S-9990Hr)  광도 조정 기능 ・램프 파워는 가변적(70~100%) ・램프 입력 파워 표시 기능으로  램프 조명 시간 표시 기능 ・램프 조명 누적 시간 표시(기대 수명 표시 포함)  외부 원격 기능 ・전원 입력 신호, 램프 조명 입력 신호・셔터 타이머 시작 입력 신호 ・셔터 수동 개방 입력 신호  외부 모니터링 기능 ・셔터 개방 확인 출력 신호, 셔터 클로저 확인 출력 신호・램프 조명 확인 출력 신호, 램프 안정 조명 확인 출력 신호・과열 알람/인터록 알람 출력 신호・램프 수명 초과 경보 출력 신호

고정식 (대형) 고정밀 균일 및 병렬 조명 리소그래피 장비

 

 

자외선 노출 유형

 

UV 사진 에칭 유형

 

	특징
	당사의 모든 고준위 병렬 광 조사 장치는 램프의 UV 광 출력을 효율적으로 활용하고 기존에 사용할 수 없는 조사 표면에서 UV 강도를 달성하는 독점 광학 시스템인 "고효율 트윈 미러 유닛"을 채택하고 있으며, 다양한 광학 장치를 결합하여 범용 유형 및 고정밀 유형의 라인업도 제공합니다. TCC 타입 ・・・・ 고효율 트윈 미러 유닛과 독점 광학 유닛 "커패시터 렌즈 콜리메이션 미러 유닛"을 결합함으로써 높은 병렬 처리 및 UV 강도 균일성을 얻을 수 있습니다. TCP 유형 ... 이것은 고효율 트윈 미러 유닛, 커패시터 렌즈 및 평면 미러 유닛을 결합한 범용 타입입니다. 응용 분야로서 간단한 태양 광 발전 시뮬레이터 및 태양 전지의 성능 테스트 및 광 견뢰도 테스트 기계에 이상적입니다. TIC 타입 ・・・・ 이 유형은 고효율 트윈 미러 장치, 적분기 렌즈 장치 및 ±3 ° (두 각도) UV 강도 균일 성 ±5 %의 병렬 처리를 얻을 수있는 시준 미러 장치를 채택합니다. (TCC 유형 및 TCP 유형은 우리의 원래 제품입니다.) ）

 

	사양
	장치 유형 TCC 유형 TCP 유형 틱 타입 평행도 양손잡이 ±5° 각도 ±12° 주변 ±3° 조도 균일성 *1 ±10% ±15% ±5% 조사 영역 500mm 강도 *2 UEP-20 (2000W 램프 포함) 약 20mw/cm² 약 18mw/cm² 약 18mw/cm² UEP-35 (3500W 램프 포함) 약 35mw/cm² 약 28mw/cm² 약 28mw/cm² UEP-50 (5000W 램프 포함) 약 45mw/cm² 약 38mw/cm² 약 38mw/cm² 고효율 트윈 미러 ○ ○ ○ 커패시터 렌즈 ○ ○ － 통합자 렌즈 － － ○ 시준 미러 ○ － ○ 평면 거울 － ○ － *1 조사 영역 500의 분포율. *2 파장 365nm에서의 초기값.

 

UV 수지 코팅 유형

 

장착 형식 EP-2000 EP-3500 EP-5000 사용된 램프 L20001L L35001L L50001L 램프 등급 2000W 3500W 5000W 평균 수명 *3 500시간 400시간 600시간 램프 전압 DC37V DC62V DC60V 램프 전류 DC54A DC56A DC83A 적용된 조명 전원 공급 장치 HB-2000 HB-3500 HB-5000 정격 전력 입력 AC200V50/50Hz AC200V50/50Hz AC200V50/50Hz 전력 소비 2500W 4000W 5500W 광원 외부 치수 1620 (W) × 1440 (H) ×700 (D) mm 무게 약 800kg

 

 

당사의 UV (자외선) 리소그래피 장비 및 UV (자외선) 경화 장비는 반도체, 리드 프레임, 형광체 및 기타 코팅제, 용제 개발, 정밀 스크린 플레이트 및 열 헤드 인쇄와 같은 다양한 UV 노출 장면에 대응했습니다. 우리는 고객의 다양한 요청에 응답 할 것입니다. 우리는 또한 많은 주문품 기계를 제조한다, 그래서 저희에게 연락하게 자유롭게 느끼십시오. 여기에서는 예를 소개하고자합니다.

 

질소 퍼지 기능을 갖춘 병렬광조사 실험장치

 

■ 모델 ： UVE-1001SD-DIC ■램프 출력 ： 1000W 초고압 수은 램프 ■조사 영역 ： φ160mm ■주요용도:반도체, 형광체 등 용 코팅제 및 용제 개발을 위한 UV 경화 장비 산화를 방지하기 위해 질소 분위기에서 처리 할 수있는 퍼지 박스가 장착되어 있습니다.

 

진공 접착 기능을 갖춘 UV 평행 광 리소그래피 장치

 

■ 모델 ： UV-K160HC ■램프 출력 ： 500W 초고압 수은 램프 ■조사 영역 ： φ160mm ■주요 용도: 반도체, 액정 커버 소재 등의 개발 일부 경우에, 마스크는 필름이고, 진공 접착 기능이 적용된다. 두꺼운 유리 마스크와 단단한 재료도 지원됩니다. 그것은 데스크탑 유형, 전능한 실험실 UV 리소그래피 장치입니다.

 

정밀 스크린 플레이트 노출 기계

 

■ 모델 ： SSH-201H-MS ■램프 출력 ： 2000W 초고압 수은 램프 ■조사 영역 ： 400 X 400mm ■ 주요 응용 분야 정밀 스크린 플레이트, 반도체 및 열 헤드 인쇄를위한 고정밀 해상도가 필요하기 때문에 병렬 조명으로 노광 작업에 사용할 수 있습니다. 또한, 기존의 메타하라 램프에 비해 높은 조도는 노출 시간을 줄이고 열에 의한 치수 정확도의 편차를 감소시킨다.

 

실험 및 개발을 위한 UV 경화 장비

 

■ 모델 ： UV4001H‐M2 ■램프 출력 ： 4000W 금속 할리도 램프 ■조사 영역 ： 200 X 200mm ~ 요청시 크기 램프 출력 1500W ~ 산란 광원 메탈 할라이드 또는 수은 램프와 함께 사용할 수있는 멀티 타입 램프이며 넓은 파장 범위를 지원합니다. ■주요 용도: 레지스트 개발 및 연구용, 대량 생산 라인에서 UV 경화의 재생 및 분석을 위해. 다양한 개발, 프로토 타입 UV 경화. 깨끗한 객실과 호환되는 SUS 인클로저.

 

넓은 지역, 높은 병렬 처리, 실험 개발을위한 리소그래피 장비

 

■ 모델 ： UVE-500S1 ■램프 출력 ： 3500W 초고압 수은 램프 ■조사 영역 ： φ520mm ■주요 용도 이 장치는 LED 소자의 시제품 제조 시 실험에 사용되며, 평행광과의 통합 노출에 의해 제어된 자외선으로 패터닝에 사용됩니다.

 

 

■ 문의 요청 및 질문은 아래로 문의하십시오. 네오닉스시스템 TEL : 052-288-6801 이메일 주소 : neonix@neonixsystem.com

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