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아크 필라멘트형 이온 플레이팅 장치(AF-IP 장치)
종래 CVD에서 밖에 실용화할 수 없었던 막종(후막 산화막·탄화막 등)을 PVD에 의해 실현한 신방식의 이온 플레이팅 장치입니다
.
「아크 필라멘트형 이온 플레이팅 장치」는 증발원상에서의 증발 입자와 열전자와의 충돌에 의해 증발 그림 입자의 이온화를 효율적으로 실시합니다
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또한 도입 가스와 이온화한 증발 입자의 반응에 의해 치밀하고 밀착력이 강한 각종 반응막(질화막·
산화막·탄화막·탄질화막)을 형성할 수 있습니다.
종래형의 「아크 방전형 이온 플레이팅 장치」에서는 곤란했던 산화막의 후막 형성도 실시할 수 있게 되었습니다
.
아크 필라멘트형 이온 플레이팅 장치이기 때문에 형성할 수 있는 새로운 PVD막은 정밀 금형이나
반도체 제조 장치 부품 등 많은 용도로의 전개가 기대되고 있습니다.
대응 막종
산화막 이트리아(Y2O3) ※신개발막
알루미나(Al2O3) ※신개발막
탄화막 SiC ※신개발막
질화막 TiN
CrN
그 외 각종 금속 및 반응막
각종 피막 단면 사진
| 신개발막 | |
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| 종래 막종 | |
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