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세라믹 필터 전자 반도체 용 |
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반도체 · 액정 제조 공정에 사용하는 물 취수량 · 배수량을 감소시킵니다. 안정 가동 운전 관리 · 유지 보수를 용이하게합니다.
[여과] [회수] [분리] [집중] [정제]
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옵션 |
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● 여과 액 탱크 ● 이단 농축 장치 ● 필터 청소용 약주 장치 ● 클린 룸 유닛 ● 열교환 장치 |
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특징 |
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폐수를 여과하여 회수하는 것으로, 배수량을 격감 수 있습니다. |
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● |
DC 가공 폐수에서 99.9 % 이상의 여과 액의 회수를 기대할 수 있습니다. |
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DC 가공 폐수에서 99.9 % 이상의 여과 액의 회수를 기대할 수 있습니다. |
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● |
CMP 폐수에서 99 % 이상의 여과 액의 회수를 기대할 수 있습니다. |
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■ |
여과 액을 순수 장치의 원수로 사용하여 순수 장치의 부하를 줄일 수 있습니다. |
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물을 순환시키는 것으로, 용수 취수량 · 배수량을 격감 수 있습니다. |
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소모품이없고, 런닝 코스트를 줄일 수 있습니다. |
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필터의 손상이 전무 운전 관리가 용이합니다. |
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관련 사양 예 |
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용도 |
실리콘 웨이퍼 DC 가공 폐수 회수 처리 |
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모델 |
7M3-2S3P |
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사용 필터 |
MBX3-1020-0.1 (막공경 : 0.1μm) |
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여과 면적 |
14.7㎡ |
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처리량 |
5.5㎥ / h |
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접액부 재질 |
SUS304 (내 외면 산세) |
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무게 |
3200kg (운전 중량) |
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관련기기 |
· 원액 탱크 순환 펌프 자동 역세 장치 · 제어반 |
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주요 용도 |
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BG 가공 폐수, DC 가공 폐수, CMP 폐수 |
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● |
유리 렌즈의 연마 배수 |
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● |
전자 용 페이스트 · 슬러리의 정제 · 농축 회수 |
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사양 |
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주요 폐수의 투과 유속 (FLUX) |
사용 막공경 |
투과 유속 (l / m 2 h) |
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유리 렌즈의 DC 가공 폐수 |
0.2μm |
400 ~ 600 |
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실리콘 공부 비소 웨이퍼의 DC 가공 폐수 |
100nm |
300 ~ 500 |
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실리콘 공부 비소 웨이퍼 BG 가공 폐수 |
100nm |
200 ~ 400 |
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CMP (산화물 계) 배수 |
50nm |
50 ~ 100 |
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CMP (메탈 계) 배수 |
50nm |
50 ~ 100 |
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고객님 께서 사양에 따라 디자인하기 때문에, 상담해주세요. |
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네오닉스 시스템은 NORITAKE 社 의 모든 제품을 취급하고 있습니다.
홈페이지에 없는 제품들은 귀사로 문의 해주세요. ☎ 052-288-6801 |
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